NILT打造出多元光学元件镜头，绝对效率达到94%
日前，光学解决方案公司NIL Technology (NILT)最新透露，他们已经设计、制造出多元光学元件(MOE)镜头，其绝对效率达到了94%。
据悉，本次演示中展示的是940nm的近红外镜头，最新带来的结果被认为是超透镜（metalenses）商业化应用的一个重要里程碑，不久后即将投入批量生产并交付。
NILT补充称，这些透镜已经准备好交付和批量生产，它们可以设计为搭载完整相位功能的模式。此外，多MOE堆叠组件可以设计为所需的规格。该公司表示，MOE本身是由玻璃基板上的硅制成的，这使其坚固、刚性、可靠和热稳定性。它可以实现近红外和SWIR波段的定制波长。
MOE生产的整个过程，从设计、原型、组装、量产都是在内部完成的。大规模生产是通过纳米压印光刻技术完成的，与半导体工艺不同，纳米压印光刻技术不限制元原子的几何形状，如尺寸、形状和位置。
这确保了基于当前设计技术的最佳性能MOE和更大的创新自由。此外，纳米压印光刻工艺使NILT能够大规模生产，而无需依赖资本密集型设备，如深UV光刻系统。
据悉，本次演示中展示的是940nm的近红外镜头，最新带来的结果被认为是超透镜（metalenses）商业化应用的一个重要里程碑，不久后即将投入批量生产并交付。
NILT补充称，这些透镜已经准备好交付和批量生产，它们可以设计为搭载完整相位功能的模式。此外，多MOE堆叠组件可以设计为所需的规格。该公司表示，MOE本身是由玻璃基板上的硅制成的，这使其坚固、刚性、可靠和热稳定性。它可以实现近红外和SWIR波段的定制波长。
MOE生产的整个过程，从设计、原型、组装、量产都是在内部完成的。大规模生产是通过纳米压印光刻技术完成的，与半导体工艺不同，纳米压印光刻技术不限制元原子的几何形状，如尺寸、形状和位置。
这确保了基于当前设计技术的最佳性能MOE和更大的创新自由。此外，纳米压印光刻工艺使NILT能够大规模生产，而无需依赖资本密集型设备，如深UV光刻系统。
